【ナノグループ共催】第78回CVD研究会のご案内

下記の通り，第78回CVD研究会が京都大学桂キャンパスにて，研究室見学会お
よび5件の講演で，開催されます。本グループも共催していますので，ご案内
します。なお，恒例の講演会終了後の技術交流会は今回は開催されません。ご
了承ください。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　敬具

　　　　　　　　　　　　　　　　 記

日　　時 ： 令和4年12月2日（金）10：30 ～17：00
開催形式 ： 対面（一部オンラインでのご講演あり）
場　　所 ： 京都大学桂キャンパスA2棟305号室(午前), A2棟306号室(午後)
主　　催 ： CVD研究会
共　　催 ： 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会，京都大学化学プロセ
　　　　　 ス研究コンソーシアム ナノ材料プロセス研究グループ
協賛(予定)： 近畿化学協会，化学工学会関西支部，日本化学会近畿支部
参 加 費 ： CVD研究会会員　3,000円　
　　　　　　大学・国公立研究機関関係者　5,000円
　　　　　　共催・協賛団体会員(企業関係者)　10,000円
　　　　　　一般　15,000円
　　　　　　学生　1,000円
申込締切 ：　令和4年12月1日（木）12時
申込方法 ：　以下の URL よりお申し込みください。
　　　　　　 　https://cvdjpn.doorkeeper.jp/events/146493
　　　　　　参加費は，クレジットカード払いでお願いします。請求書払
　　　　　　いを希望される場合は，事務局にご相談ください。
（お問い合わせ先）
　CVD研究会（会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆）
　　e-mail: cvd@cheme.kyoto-u.ac.jp
　　Tel： 075-383-2663, 　Fax： 075-383-2653
　　〒615-8510　京都市西京区京都大学桂
　 （京都大学大学院工学研究科化学工学専攻反応工学分野内）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　以上

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　　　　　 　　　　　　　第78回 CVD研究会

主催 　ＣＶＤ研究会
共催 　化学工学会反応工学部会ＣＶＤ反応分科会，京都大学 化学プロセ
　　　 ス研究コンソーシアム ナノ材料プロセス研究グループ
協賛（予定）　近畿化学協会，化学工学会関西支部，日本化学会近畿支部

日時： 令和4年12月2日(金) 10：30 ～ 17：00
場所： 京都大学桂キャンパスA2棟305講義室(午前), A2棟306講義室(午後)

プログラム
10:30～11:30　研究紹介および研究室見学会
　　　　　　　京都大学 材料化学専攻 教授　田中 勝久 氏
　　　　　　　京都大学 化学工学専攻 教授　河瀬 元明 　
11:30～12:45　昼休み
12:45～13:00　令和4年度CVD研究会総会
13:00～13:50 「HiPIMS法によるDLC成膜技術の応用」
　　　　　　　ナノテック株式会社　取締役　平塚 傑工 氏
13:50～14:40 「反応性物質の活用で拓くシリコン系CVDプロセスの可能性」
　　　　　　　横浜国立大学 名誉教授 反応装置工学ラボラトリー　羽深 等 氏
14:40～14:50　休憩
14:50～15:40 「不純物でスパッタ膜のモフォロジーを制御する
　　　　　　　　～アモルファスからエピ膜まで～」
　　　　　　　九州大学 システム情報科学研究院 教授　板垣 奈穂 氏
15:40～16:30 「MOCVD法による強誘電体薄膜及びナノ構造の作製」
　　　　　　　兵庫県立大学 工学研究科電子情報工学専攻 教授　藤沢 浩訓 氏
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・中嶋 誠二 氏
16:30～17:00　 話題提供「Use of Direct Liquid Injection (DLI)
　　　　　　　vaporization for the CVD and the ALD of various materials
　　　　　　　for diverse applications」
　　　　　　　KEMSTREAM　President　Herve Guillon 氏

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